一、真空鍍膜簡介

　　真空鍍膜技術是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，因為鍍層常為鋁、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱為真空金屬化。

　　二、真空鍍膜的功能

　　主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

　　三、真空鍍膜的工藝

　　真空鍍膜根據鍍膜氣相金屬產生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結合力強，鍍膜層致密、均勻等優點，更具有技術優勢。