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一種可尋址氮化鎵基LED顯示微陣列及其制備方法

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  • 更新日期:2013-06-07 14:34
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本發明公布了一種可尋址氮化鎵基LED顯示微陣列及其制備方法,所述微陣列包括藍寶石LED外延片、GaN列矩陣隔離結構、InGaN/GaN量子阱薄膜層、有源區、N型歐姆接觸、P型歐姆接觸、光線反射金屬層、金屬互連引線、以及支撐硅電極。所述方法采用干法ICP刻蝕出Mesa隔離結構的列單元和能放置LED字線金屬引線的臺面結構,然后分別電子束蒸發不同金屬形成N型和P型歐姆接觸,形成光線反射金屬層,并用PECVD淀積二氧化硅作為鈍化層;在LED陣列引線外接區域電子束蒸發金屬形成LED陣列的倒裝焊壓焊結構;隨后在硅襯底裸片的隔離氧化層上完成金屬鋁線圖形化Al并淀積二氧化硅鈍化層,最后采用倒裝焊技術實現對接。
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